本製品は、35W　UVランプ2灯と照射タイマー及び冷却ファンからなり、UVシャワーとUV管から発生するオゾンガスシャワーを密封したスペースに満たし、除染処理後蓄えたオゾンを完全に消去するシステムを基本構造としております。UVとオゾンに満たした空間を利用して洗浄効果を期待して設計されております。
金属表面に付着している有機系薄膜（汚染物）が酸化分解し昇華させるドライプロセスを実現させます。有機系皮膜へ紫外線を照射した場合有機物の結合が切断され、同時に生成された活性酸素と結び付く事で揮発性の物質へ変化し表面から分解除去（洗浄殺菌）する事が可能となります。

参考：185nmの波長はオゾン線、254nm波長は殺菌線と呼ばれ、基盤洗浄・改質・純水の殺菌・アンダーカットの大井塗装前処理など幅広い用途で使用されている、長い歴史があり現在も多くの分野で利用されています。

■照射時間（必要容量と照射時間の組み合わせ）
10分で殆どが十分な照射時間です。ボックス内に酸素が無いとオゾンは発生しないので長時間連続運転は無意味となり、長時間オゾン照射は諸々悪影響があります。必要以上の加熱はインプラント表面処理に悪影響あり、又UV管の劣化が促進され、破損する事もありえます。オゾンは酸素が無くなれば発生しません。ですので10分照射以上は無意味になります。
そして高い紫外線照度をもたせると同時に照射効率を考えた形状設計にしています。

■作業しやすいタイマーを採用
分単位、時間単位、フルケース60分等自由に設定値を変える事が出来、正確な時間設定を容易に行う事ができます。（通常は10分間が有効性が高く効率が良い）

■オゾンガスの人体への影響を極力考慮したセット内容と構造
・オゾンガス処理装置をセットに組み込みました。オゾンガス濃度が低下するまで、除染物の取り出しを待つ必要がありません。
・電磁ロックにより、ロック解除をしなければ、蓋の開閉が出来ないような設計にしています。オゾンガス処理装置にオゾンガスを移動してから除染対象物を取り出して頂きます。
・漏れたオゾンガスも活性炭で吸着。照射室はほぼ密閉状態に近くに成るよう設計されていますが、漏れたオゾンガスは後方で活性炭により吸着されるような設計にしております。

■オゾンガスと紫外線による除染効果
紫外線は出来る限り影のでない様に発光管の配置を考えており、効率的に照射されますが、その上まんべんなくオゾンガスシャワーで確実な除染を行う事が出来ます。又、この除染方法は、残留薬液の問題や廃液処理の心配もなく、安心してご使用頂ける除染器です。

■オゾンを完全処理し排気
強制廃棄するオゾンはオゾン処理剤を通り酸素に変換して大気に放出されます。

■低圧水銀ランプからの発熱を
電源部の冷却と発光部の冷却は重要なので、電源部と発光部を二重構造としています。

近年オゾンは、その強力な酸化力を利用し、液体、気体中の有毒物質の分解、殺菌等環境浄化の手段として広く用いられております。
しかし、使用後排出される余剰オゾンは低濃度であっても人体に有害であり、又、光化学スモッグの主成分として強い関心が寄せられております。
（強制廃棄するオゾンはオゾン処理剤を通り酸素に変換して放出されます）
その為に環境問題としてその除去処理が求められています。その除去方法としては燃焼法、活性炭法、薬品処理等ありますが、効率の面から活性炭による分解法が主に使われてきました。
普通の活性炭の場合、予防処置を施した使用法がとられております。セカードMR-4及びKRは吸着剤であるアルミナシリカゲルを主体に粉末活性炭を配合・成形したもので日本原子力研究所の協力のもとに危険性のない安全な分解剤として開発されたものです。

シャワー後の親水性の保持
照射して照射機からとりださなければ3時間程度は親水性に問題無い事は実験済みです。工業界にもこの方式は古くから採用されております。
オゾンブースから時間を経過せず即次の工程にて処理される事がいずれも共通した使用方法です。塗装やIC基盤の殺菌等々は40年以上の歴史がり、今でもオゾンは有効に使用されております。 使用方法さえ誤らなければ安全であり、大気中で酸素に変わって行く事はご承知の通りです。

親水性は骨結合に大きく左右されると・・
このような論文は確かに発表されました。しかしあくまでも親水性が無いより向上した方が骨結合に有効に働くのではないかと考える事は、各メーカーの表面処理方法の違いと開発の歴史を考えれば明らかです。
現在まで推測の域をこえてない事も事実です。
工業界は工業界ですが、理論的には金属除染用として十分リンクして考えられる事とも言えるのではないかと考えています。